CZA-4N/FX sorozatú inert gáztisztítók

CZA-4N/FX sorozat
Az inert gáztisztító elve az, hogy az ötvözet adszorbensek magas hőmérsékleten reagálhatnak olyan szennyeződésekkel, mint az oxigén, a nitrogén, a víz, a szén-dioxid és a szénhidrogenek, hogy stabil vegyületeket vagy szilárd oldatokat hozzanak létre az argon, a hélium, a radon, a xenon és a fenti szennyeződések eltávolítása érdekében, így a tisztítás célja, a tisztítás után kapott magas tisztaságú gázokat széles körben használják félvezetők, elektronika, fémgyászat, lítium-akkumulátor gyártás, optikai szál és egyéb ipari ágazatok elemzésében és tudományos kutatásában.
Termékek jellemzői
n mély tisztítási fok, nem csak eltávolítja az O₂Aktívabb szennyeződések, és eltávolítható az N₂Inert szennyeződések, amelyek általában nem tisztíthatók;
n A tisztító kettős torony szerkezete, egy munkacsoport, a másik tartalék csoport, a két felső tisztító használata;
Alacsony működési hőmérséklet, kevesebb energiafogyasztás.
n Ez a sorozat tisztító rendelkezik előre tisztító torony, az ötvözet adszorpciós torony előtt eltávolította az aktívabb szennyeződéseket, így jelentősen meghosszabbítja az ötvözet adszorpciós torony élettartamát
Műszaki paraméterek

Eszköz neve	berendezés típusa	munkamód	Megjegyzések
Inert gáztisztító	CZA-4N	félig automatikus	Ar
	FX□-Z	félig automatikus	Válasszon Ar, He, Xe, Ke vagy Ne
Keresgáz követelmények Ar、He	Tisztaság	≥99,99% tiszta argon, folyékony argon
	szennyeződés követelmények	O2≤200PPm, H2O≤1000PPm，N2≤100PPm
Tiszta gáz kimenete	Tisztaság	≥99.9999%
	szennyeződések tartalma	O2≤0.5PPm； N2≤0.5PPm； H2O≤1PPm (azaz harmatpont≤-76 ℃); CO+CO2≤0.1PPm； Porrészecskék száma (≥ 0,3 μm) 3-5 db / l
Munkás nyomás	0～1.0MPa
A gáz feldolgozása	1～4Nm3/h
Megjegyzések	Felhasználói igényeknek megfelelően tervezhető